Dimension-Labs 反射光谱分析系统能快速准确地测量各类平面、球面光学元件、薄膜材料的反射光谱，以得到材料的光谱特性、膜厚、纯净度等参数，具有以下特点。

 

l 测试谱段宽，可包含紫外-可见-近红外波段，满足绝大多数样品需求。

l 测试速度快，响应灵敏，测试周期短，节约工作时间。

l  组成部件少，使用便捷，可即学即用，时间成本低。

l  采用光纤探头测试，测试环境灵活多变，适应多物态样品。

 

测试系统：反射测试系统      测试软件：Dimension-Labs/SpecView

 

部件名称	部件型号	产品展示/应用场景
光纤光谱仪	DL-FOSL-350-1050
氘钨宽带光源	DL-DW-200-2500-25W
Y型反射光纤	DL-MM7-SMA-600-200-1100-1.5
测量支架	DL-SSH-RT
镜面反射板	DL-SR-30

 

1.光纤光谱仪

在反射光谱测试系统中，Dimension-Labs建议选择通用型和高灵敏度型光纤光谱仪，可以实现350-1050 nm的宽谱测量以及1.3 nm的分辨能力，满足对波峰波谷分辨以及低光亮度下的测量情景，并可以根据不同的光谱仪型号实现更优的性能。

 

2.宽带光源

根据测量波段需求可以选择使用氘钨光源200-2500 nm，或者卤钨光源350-2500 nm。Dimension-Labs同样提供不同功率输出的光源以满足不同测试需求。

 

3.Y型反射光纤

引导光线由光源照射在样品表面，并收集反射信号传输至光谱仪，连接时需注意6芯头连接光源，单芯头连接光谱仪。借助Y型反射光线可以帮助在多种场景下采集反射信号而不用拘束于样品架与样品物态。

 

4.反射参考板

用于标定照射在样品表面的入射光信息，根据反射类型需求可选用镜面反射与漫反射板。

 

 

【测量数据和数据处理】

                 

图（1）  反射率测试示意数据

基于Dimension反射测量系统所测得0.5 mm厚Si基片的反射率谱图如图（1）所示。硅是一种常见的无机非金属元素，高纯硅常用于太阳能电池的生产制造。借助反射率测量可以帮助评估Si基表面形貌状态，对于分析实验数据，总结实验规律有所帮助。本次测量结果符合晶硅反射测量结果，很好体现其在紫外-可见-近红外的光学特性。